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La búsqueda de una mayor funcionalidad en factores de forma más pequeños a nivel de chip está ejerciendo una gran presión sobre los fabricantes de obleas para que desarrollen funciones cada vez más pequeñas y compactas. Esto a su vez requiere un uso de la fuerza muy preciso y preciso para crearlos.
Para satisfacer esta demanda, Advanced Energy lanzó la solución de energía polarizada CC eVoS Pulse. Está diseñado para lograr el control directo de la tensión superficial de la oblea y las distribuciones de energía iónica (IED) resultantes en procesos de deposición y grabado basados en plasma.
La familia de productos eVos es un generador de formas de onda de polarización asimétrica y combina una fuente de alimentación bidireccional y una fuente de alimentación independiente para configurar y controlar el potencial de la superficie de la oblea. La salida asimétrica del sistema eVoS evita las limitaciones y restricciones de polarización de la oblea asociadas con los procesos de aplicación de polarización de RF sinusoidal. Al maximizar la capacidad de ajustar la energía iónica, eVoS permite un control preciso de las geometrías de grabado y deposición en dimensiones muy pequeñas.
La capacidad de controlar directamente la tensión superficial de la oblea y la distribución de la energía iónica permite optimizar el rendimiento del sesgo para resultados de procesos específicos, lo que garantiza la formación de estructuras sensibles. Las características de la solución, como la rápida tecnología de medición digital y los novedosos algoritmos de control, permiten la producción de IED más estrechos en comparación con soluciones alternativas heredadas.
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